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手动晶圆锥度

• 平边及圆边一次切割完成,无飞边 • 刀片可加热到180℃,可切割一些偏硬,偏厚的膜 • 手动龙门贴膜,贴膜压力可调,贴膜力稳定可靠,贴膜不受人为影响。

半自动晶圆扩展

• 伺服电机顶出,扩膜高度,速度可控,可保证晶粒十分均匀散开。 • 触摸屏中可从三个不同的程序中选择一个扩膜,各程序的程序名,扩膜高度,扩膜速度都可设定。

手动非接触式晶片测量系统

• Wafer Sizes:50-300mm • Measurement Range:0-760um • Thickness Accuracy:+/-0.2um • Repeatability:0.04um

半自动UV固化

• 灯管紫外线强度:14mw/cm2 • 自动托盘 • 高温保护 • 带灯管损坏检测 • 3种照射时间可选,可设定 • 可根据客户不同要求设计托盘

手动晶圆贴片机

• 省膜:如8“框架消耗膜长仅305mm。 • 可适应贴100um-1000um厚度范围的晶圆,只需将工作台高度指针指向对应刻度。
• 手动龙门贴膜,贴膜压力可调,贴膜力稳定可靠,贴膜不受人为影响。 • 浮动式晶圆放置台,更好保护晶圆。

半自动晶圆锥度

• 极省膜:如8“晶圆消耗膜长仅220mm • 手动取放晶圆,其它自动完成,贴膜稳定性及贴膜质量极佳,不受人为影响 • 只需选择需要贴膜的产品尺寸,机器自动完成刀具及程序的转换。 • 平边及圆边一次切割完成,无飞边 • 刀片可加热到180℃,可切偏硬、厚膜

Automatic Wafer Mounter

• 可以操作晶圆盒和直接操作晶圆舟 • 对晶圆盒或晶圆舟中的晶圆进行定位和扫描 • 晶圆斜片刻痕检测 • 自动从晶圆盒中拾取晶圆 • 先进4轴机械臂,包括马达驱动反转器 • 智能视觉晶圆定位 • 智能晶圆ID读取 • SEC-GEMS兼容

Quality Performance for High Yield and Productivity

• 2D,3D VISION INSPCTION • Automated Handling System • Reject Identification • Network and Strip Map Data Management System

wafer清洗机

• 清洗机适用于清洗经切割机切割后的工件
• 可根据工件大小,洁净度要求,调用设置
好的程序进行清洗 • 本机采用水气二流体喷嘴进行清洗,喷嘴产生的高速雾状水汽可实现低破坏下的高效清洗。 • Wafer放置台
采用微孔陶瓷真空平台

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